WaferDemo Cutout
WaferDemo Cutout

線掃描技術應用於高精度晶圓檢測

最高精度。最低缺陷。最高製程可靠性。


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現代晶圓檢測要求

技術性能參數

透過均勻的暗場照明,即使在高度反射的表面上,10微米的刮痕也能清晰可見。

Analysis 03

掃描寬度

210 公釐 / 310 公釐

Analysis 02

決議

 5–15 微米

Optimization Support 05

掃描時間

每片晶圓處理時間少於10秒

Modules 02

照明

明場/同軸 + 暗場組合,實現最大對比度

Optimization Support 02

均質性

憑藉Corona II反射器技術實現極其均勻的照明效果

每種晶圓尺寸的理想解決方案

透過整合 allPIXA evo 相機、鏡頭、Corona II 照明系統、智能調整工具及選配的線掃描視覺平台,Allied Vision 提供一套由標準元件組成的完整晶圓檢測解決方案——適用於 200 毫米與 300 毫米晶圓。該方案具備高速、可靠的特性,並能完美整合至現有及新建的生產線中。

200 毫米晶圓尺寸

13 微米

6.5 微米

  • 相機:1x allPIXA evo 16k(彩色)
  • 照明:1x明場(340毫米),2x暗場(340毫米)
  • 特殊功能:緊湊型單相機配置,無需拼接。
  • 相機:1x allPIXA evo 32k(單色)
  • 照明:1x明場(340 mm),2x暗場(340 mm)
  • 特殊功能:緊湊型單相機配置,無需拼接。

選配:搭配對準轉接器、對準尺及GCT軟體內建對準功能,可實現毫米級精準設置——快速、可重複且可靠。

300 毫米晶圓尺寸

9.5 微米

5 微米

  • 相機:1x allPIXA evo 32k(單色)
  • 照明:1x明場(510毫米),2x暗場(510毫米)
  • 特殊功能:緊湊型單相機配置,無需拼接。

  • 相機:2x allPIXA evo 32k(單色)
  • 照明:1x明場(510 mm),2x暗場(510 mm)
  • 特殊功能:雙相機配置實現最高精度。

選配:搭配對準轉接器、對準尺及GCT軟體內建對準功能,可實現毫米級精準設置——快速、可重複且可靠。

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