WaferDemo Cutout
WaferDemo Cutout

线扫描技术在高精度晶圆检测中的应用

最高精度。最低缺陷。最高工艺可靠性。


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现代晶圆检测要求

技术性能参数

在均匀暗场照明下,即使在高反射表面上,10微米的划痕也能清晰可见。

Analysis 03

扫描宽度

210 毫米 / 310 毫米

Analysis 02

决议

 5–15 微米

Optimization Support 05

扫描时间

< 每片晶圆10秒

Modules 02

照明

明场/同轴+暗场组合,实现最大对比度

Optimization Support 02

均质性

得益于Corona II反射器技术,照明效果极为均匀

适用于各种晶圆尺寸的理想解决方案

通过整合所有allPIXA evo相机、镜头、Corona II照明系统、智能调节工具以及可选的线扫描视觉平台,Allied Vision为晶圆检测提供了一套由标准组件构成的完整解决方案——适用于200毫米和300毫米晶圆。该方案具备高速、可靠的特性,并能完美集成至现有及新建的生产线中。

200毫米晶圆尺寸

13 微米

6.5 微米

  • 相机:1台allPIXA evo 16k(彩色)
  • 照明:1x明场(340毫米),2x暗场(340毫米)
  • 特殊功能:紧凑型单相机设置,无需拼接。
  • 相机:1x allPIXA evo 32k(单色)
  • 照明:1x明场(340毫米),2x暗场(340毫米)
  • 特殊功能:紧凑型单相机设置,无需拼接。

可选配件:配合对准适配器、对准尺及GCT软件内置对准功能,实现毫米级精准设置——快速、可重复且可靠。

300毫米晶圆尺寸

9.5 微米

5 微米

  • 相机:1台allPIXA evo 32k(单色)
  • 照明:1x明场(510毫米),2x暗场(510毫米)
  • 特殊功能:紧凑型单相机设置,无需拼接。

  • 相机:2x allPIXA evo 32k(单色)
  • 照明:1x明场(510毫米),2x暗场(510毫米)
  • 特殊功能:双摄像头配置实现最高精度。

可选配件:配合对准适配器、对准尺及GCT软件内置对准功能,实现毫米级精准设置——快速、可重复且可靠。

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